产品分类

PRODUCT CLASSIFICATION

技术文章/ article

您的位置:首页  -  技术文章  -  ​新热工业加热器工序应用及产品优势分析

​新热工业加热器工序应用及产品优势分析

更新时间:2026-07-07      浏览次数:48

日本新热工业(SHINNETSU) 在半导体行业有重要应用


一、半导体行业应用工序


1. 核心应用工序
气体加热器、平板加热器,用于硅片加热与干燥,晶圆清洗后的干燥处理,去除表面水分
半导体专用加热器,用于晶圆处理,晶圆制造过程中的温度控制
高精度加热器,用于光刻工艺,光刻胶涂布、曝光、显影等环节的温度控制
筒式加热器,用于蚀刻工艺,蚀刻设备中的温度稳定控制
液晶加热器,用于液晶面板生产,玻璃基板加热,确保工艺温度均匀


二、产品具体优势
1. 高精度温度控制:采用特殊加热器及特殊结构,实现准确的温控控制,确保晶圆处理、光刻、蚀刻等关键工艺步骤中的温度**控制,为半导体产品的质量和性能提供有力保障
2. 高效高速升温,加热效率高,可清洁地快速升温加热对象气体,缩短生产周期,提高生产效率,在有限空间内实现高电气容量配置
3. 清洁无污染,采用清洁热技术,加热过程无污染物产生,无需隔热材料,仅需连接管道即可使用,特别适合对洁净度要求的半导体制造环境
4. 结构紧凑,安装便捷,设计充分考虑现场操作便捷性,易于安装与拆卸,采用模块化设计,可根据实际需求快速组装或拆卸,接口设计标准化,易于与各种管道、容器等设备连接
5. 高功率密度,在长度相同的情况下,比传统护套加热器承载更多电气容量,在有限空间内实现更高的加热效率,特别适合对加热功率要求高但安装空间受限的场景
6. 温度均匀性,确保模具/晶圆温度的**控制,提高产品质量,延长设备使用寿命,保障半导体及显示设备生产过程中的温度控制稳定性

三、主要产品系列

气体加热器特点:清洁加热,无需隔热材料,用于惰性气体加热、晶圆干燥
平板加热器特点:均匀加热,温度控制精准,用于玻璃基板加热、液晶面板生产
筒式加热器特点:高功率密度,安装便捷,用于模具加热、液体加热、半导体设备
护套加热器特点:小直径设计,灵活应用,用于狭小空间加热需求
油加热器特点:稳定加热,温度控制**,用于半导体行业专用设备(如FHO-651系列)



日本新热工业凭借高精度温度控制、高效清洁加热、紧凑结构设计等核心优势,已成为半导体制造、液晶面板生产等领域的关键设备供应商。特别是在晶圆处理、光刻、蚀刻等对温度控制要求的工序中,其产品能有效保障产品质量和生产效率

公司简介  >  在线留言  >  联系我们  >  

CONTACT

办公地址:天津市和平区金谷大厦

TEL:022-23311600

EMAIL:zc@iwase365.com
扫码加微信
版权所有©2026 岩濑(天津)国际贸易有限公司 All Rights Reserved   备案号:津ICP备2023004092号-2   sitemap.xml技术支持:化工仪器网   管理登陆

TEL:16600676852

扫码加微信