KAIJO楷捷 半导体晶圆用清洗设备 CA-6359VSP 主要用于工业制造、精密加工和高科技研发领域的深度、高效清洗，特别擅长处理复杂结构部件和纳米级污染物。其核心是通过空化效应实现无接触式清洗。

KAIJO楷捷 半导体晶圆用清洗设备 CA-6353VSP 主要用于工业制造、精密加工和高科技研发领域的深度、高效清洗，特别擅长处理复杂结构部件和纳米级污染物。其核心是通过空化效应实现无接触式清洗。

KAIJO楷捷 超声波清洗机 C-30800S 主要用于工业制造、精密加工和高科技研发领域的深度、高效清洗，特别擅长处理复杂结构部件和纳米级污染物。其核心是通过空化效应实现无接触式清洗。

KAIJO楷捷 太阳能清洗设备 C-603VBLTS 主要用于工业制造、精密加工和高科技研发领域的深度、高效清洗，特别擅长处理复杂结构部件和纳米级污染物。其核心是通过空化效应实现无接触式清洗。